Raġunijiet u soluzzjonijiet għall-isfar ta 'liftijiet elettroforeżi

Ir-raġunijiet għall-isfar ta 'liftijiet elettroforetiċi huma miġbura fil-qosor kif ġej: żebgħa elettroforetika nnifisha; konduttività fqira tal-ossidazzjoni; ħasil mhux komplut qabel l-elettroforeżi; tqaddid eċċessiv; il-likwidu tat-tank ta' l-ossidazzjoni huwa mniġġes bl-aċidu nitriku:

1. Fenomenu isfar ikkawżat minn konduttività elettrika fqira ta 'liftijiet waqt l-ossidazzjoni

Kuntatt fqir bejn il-lift u l-virga konduttiva se jżid ħafna r-reżistenza fil-punt tal-kuntatt, it-tmiem tal-profil se jisħon, il-film tal-ossidu se jiġi ffurmat malajr wisq u akkumpanjat minn ħruq, u anke l-film tal-ossidu se jkun trab. F'dan iż-żmien, il-film tal-ossidu huwa kemmxejn imdardar, u l-kulur isir isfar. Jekk l-elettroforeżi terġa 'titwettaq, se jkun hemm fenomenu isfar ovvju ħafna. Dan it-tip ta 'fenomenu isfar huwa ġeneralment biss ftit wara xulxin, u bażikament jidher fl-aħħar tal-profil. Għalhekk, għandhom jittieħdu miżuri biex jiġi żgurat kuntatt tajjeb bejn il-profil tal-aluminju u l-virga konduttiva.

2. Fenomenu tal-isfar ikkawżat minn ħasil mhux komplut qabel l-elettroforeżi

Il-film tal-ossidu huwa xehda, u l-istruttura poruża tiegħu tiddetermina li l-aċidu sulfuriku se jibqa 'fil-pori tal-film tal-ossidu. Kif nafu lkoll, jekk il-profili użati għall-elettroforeżi ma jinħaslux sewwa, l-isfar x'aktarx iseħħ. Għal dan il-fenomenu isfar, ġeneralment huwa maħsub li r-radikali aċidużi fil-pori tal-film tal-ossidu jirreaġixxu maż-żebgħa elettroforetika biex jikkawżaw l-isfar tal-film taż-żebgħa elettroforetika. Fil-fatt, dan l-isfar mhuwiex l-isfar tal-film taż-żebgħa, iżda l-isfar tal-film tal-ossidu. Bidla. Il-film normali tal-ossidu huwa ċar u trasparenti. Jekk jibqgħu aktar radikali sulfati fil-pori tal-film tal-ossidu, il-film tal-ossidu jirreaġixxi ma 'radikali sulfati taħt kundizzjonijiet ta' temperatura għolja, u b'hekk jagħmel il-film tal-ossidu ċar u trasparenti u trasparenti. Fl-istess ħin, flimkien mat-trasparenza għolja tal-film taż-żebgħa elettroforetika u r-riflettività għolja għad-dawl, dan id-difett huwa amplifikat aktar, u jifforma l-hekk imsejjaħ isfar. Għalhekk, diversi ħasil qabel l-elettroforeżi huma kritiċi ħafna, mhux biss biex tiġi żgurata l-kwalità tal-ilma tal-ħasil, iżda wkoll biex tiġi żgurata t-temperatura tal-ħasil u l-ħin tal-ħasil.

3. Fenomenu isfar ikkawżat mill-kontaminazzjoni tal-aċidu nitriku fil-banju tal-ossidazzjoni

Sabiex jinkiseb effett aħjar tat-tneħħija tal-irmied, wieħed jifhem li jiżdied ċertu proporzjon ta'aċidu nitriku fit-tank tan-newtralizzazzjoni, iżda jekk il-kontroll tal-ħasil tal-ilma wara n-newtralizzazzjoni ma jkunx ikkontrollat tajjeb, l-aċidu nitriku jinġieb fit-tank tal-ossidazzjoni, u n-nitrat fit-tank tal-ossidazzjoni jilħaq ċerta konċentrazzjoni. Se jkollu ċertu impatt fuq l-ossidazzjoni, u anke jikkawża l-isfar tal-profili elettroforetiċi. Matul il-proċess ta 'ossidazzjoni, in-nitrati li jidħlu fil-pori tal-film ta' l-ossidu inċiżjoni l-film ta 'l-ossidu, jissaddad is-saff ta' barriera tal-film ta 'l-ossidu, jagħmlu l-film ta' l-ossidu pori aktar fil-fond, u mbagħad ibiddlu l-istruttura tal-pori tal-film. Din il-korrużjoni għandha żewġ effetti fuq il-film tal-ossidu: 1. Is-saff ta 'barriera tal-film tal-ossidu jsir irqaq, u l-issikkar tat-twaħħil mas-sottostrat tal-aluminju jsir agħar, li min-naħa tiegħu jnaqqas l-adeżjoni tal-film tal-ossidu. 2. Taħt kondizzjonijiet normali tal-ħasil tal-ilma, huwa diffiċli li jitneħħew ir-radikali sulfati fil-pori tal-membrana. Il-profili elettroforetiċi prodotti taħt kundizzjonijiet bħal dawn għandhom ukoll fenomenu isfar. Kif tevita dan il-fenomenu isfar? Żid newtralizzatur mat-tank tal-ilma pur qabel it-tank tal-qorriegħa, aġġusta l-valur tal-pH għal 8 ~ 9.5, aħsel bl-ilma għal 2 ~ 3 minuti, innewtralizza l-grupp tas-sulfate fil-pori tal-film tal-ossidu bl-amine, u mbagħad wettaq il-produzzjoni tal-elettroforeżi, ma jkun hemm l-ebda sfurija. il-fenomenu nbidel.

4. Fenomenu isfar ikkawżat minn tqaddid żejjed

Fil-preżent, iż-żebgħa elettroforetika użata fis-suq huma bażikament moħmija u vulkanizzati taħt il-kundizzjonijiet ta '180 ° CX30min. Taħt kundizzjonijiet normali, il-film taż-żebgħa bażikament ma isfarx. Madankollu, it-temperatura tal-forn tat-twebbis ta' xi manifatturi hija irregolari ħafna, u t-temperatura lokali tvarja b'aktar minn 30 °C; is-sistema ta' kontroll tat-temperatura tal-forn tat-twebbis ta' xi manifatturi hija fqira, it-temperatura attwali hija differenti wisq mit-temperatura murija, u ż-żebgħa elettroforetika ta' kwalità fqira hija taħt kundizzjonijiet bħal dawn. Il-fenomenu isfar huwa ovvju ħafna, anke bħall-kulur. Żebgħa elettroforetika ta 'kwalità tajba huma aktar reżistenti għal kundizzjonijiet estremi bħal dawn, u xi żebgħa elettroforetika ma ssirx safra anke jekk huma moħmija f'230 °C. Sabiex tiġi evitata l-okkorrenza tal-isfar, l-uniformità tat-temperatura tal-forn u s-sensittività tas-sistema ta 'kontroll tat-temperatura huma meħtieġa, u huwa wkoll meħtieġ li tintuża żebgħa elettroforetika ta' kwalità tajba.

5. Fenomenu ta 'l-isfar ikkawżat minn żebgħa elettroforetika nnifisha

Iż-żebgħa elettroforetika anodizzata hija magħmula prinċipalment minn reżina akrilika u reżina bbażata fuq l-amini. Matul il-proċess tal-ħami tal-profil elettroforetiku, ir-reżina tgħaddi minn reazzjoni trasversali biex tifforma film tal-kisi lixx u trasparenti. Madankollu, xi manifatturi taż-żebgħa elettroforetika għandhom firxa ta 'tqaddid relattivament dejqa minħabba l-proċess ta' produzzjoni immatur jew l-użu ta 'materja prima kimika ta' kwalità fqira biex inaqqsu l-ispejjeż. Jekk il-ħami mhuwiex biżżejjed, l-ebusija tal-film taż-żebgħa mhix biżżejjed; jekk il-ħami huwa wisq, il-film taż-żebgħa jsir isfar, li jġib ċerti diffikultajiet għall-immaniġġjar tal-produzzjoni. Għalhekk, huwa rrakkomandat li tagħżel fornitur taż-żebgħa bi kwalità stabbli tal-prodott u ċerta reputazzjoni.